Приказ Минтруда России от 10.07.2014 N 455н (ред. от 12.12.2016) "Об у тверждении профессионального стандарта "Инженер-проектировщик фотошаблонов для производства наносистем (включая наносенсорику и интегральные схемы)" (Зарегистрировано в Минюсте России 18.08.2014 N 33629)
| Обобщенные трудовые функции |
Возможные наименования должностей, профессий |
Требования к образованию и обучению |
Требования к опыту практической работы |
Трудовые функции |
Трудовые действия |
|
| код |
наименование |
уровень квалификации |
наименование |
код |
уровень (подуровень) квалификации |
| 1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
6 |
7 |
8 |
9 |
10 |
11 |
| A |
Проектирование фотошаблонов субмикронного и нанометрового уровней технологии |
6 |
• Инженер-электроник
• Инженер-программист
|
• Высшее образование - бакалавриат и еще 1• Дополнительные профессиональные программы - программы повышения квалификации, программы профессиональной переподготовки
|
Опыт практической работы более двух лет в должности инженера-программиста или инженера-электроника
|
Проведение верификации первичных данных для проектирования фотошаблонов |
A/01.6 |
6 |
Анализ первичных данных и согласование технического задания (описание слоев фотошаблона, перечень необходимых операций со слоями, описание необходимых технологических элементов)
и еще 3 |
Заявка на обучение
|
| Проведение контроля сформированного кадра изображения |
| Проведение верификации исходных данных, заложенных в техническом задании, на корректность предоставленных данных согласно форме, утвержденной в организации (технические требования - приложение к договору) |
| Формирование отчета (записи в журнале) о начале работы над проектом (заказом) |
| Создание математических моделей элементов коррекции оптических эффектов близости и проведение калибровки созданных математических моделей |
A/02.6 |
6 |
Анализ технических возможностей литографического оборудования для проектирования фотошаблонов данного технологического уровня
и еще 4 |
Заявка на обучение
|
| Определение необходимости проведения коррекции оптических эффектов близости |
| Формирование скриптов коррекции и проведение коррекции оптических эффектов близости |
| Проведение анализа методов коррекции оптических эффектов близости при проектировании фотошаблонов |
| Определение и согласование с технологами участка изготовления фотошаблонов параметров коррекции эффектов оптической близости для формирования технологического рисунка на фотошаблоне |
| Настройка математических моделей литографического процесса для проведения коррекции оптических эффектов близости |
A/03.6 |
6 |
Проведение верификации полученной топологии кристалла сверхбольших интегральных схем
и еще 2 |
Заявка на обучение
|
| Проведение анализа и выбор способов коррекции оптических искажений при проектировании фотошаблонов |
| Выбор совокупности параметров настройки математической модели литографического процесса для проведения коррекции оптических эффектов близости |
| Проведение оптимизации параметров топологии в соответствии с техническим заданием |
A/04.6 |
6 |
Проведение верификации параметров исходной топологии (тональность, критичные размеры, габаритные размеры поля фотошаблона, координаты центра, наличие маркировки, метки совмещения, метки для проекционной литографии) на соответствие техническому заданию и правилам проектирования
и еще 1 |
Заявка на обучение
|
| Проведение обработки топологии фотошаблона в соответствии с требованиями технического задания (операции позиционирования слоя, изменение тональности слоя, коррекции размеров для каждого слоя, коррекции эффектов оптической близости, коррекции фазового сдвига для слоя с применением фазосдвигающих масок) |
| Разработка виртуального прототипа фотошаблона |
A/05.6 |
6 |
Формирование служебных элементов фотошаблона, необходимых для производственного и контрольно-измерительного оборудования
и еще 6 |
Заявка на обучение
|
| Формирование виртуального прототипа фотошаблона (рамки, служебной информации) с определением координат всех служебных элементов |
| Размещение топологии кристалла и тестовых структур в рабочем поле фотошаблона согласно техническому заданию и правилам проектирования |
| Объединение топологии кристалла и служебной информации в один файл, осуществляющий сборку фотошаблона |
| Согласование полученной управляющей информации с заказчиком |
| Проверка выходных данных на соответствие техническому заданию |
| Проведение верификации проекта на соответствие правилам изготовления |
| Проведение подготовки управляющей информации для оборудования участка изготовления фотошаблонов |
A/06.6 |
6 |
Проведение операции разбиения элементов топологии кристалла на геометрические примитивы, соответствующие форматам технологических установок
и еще 3 |
Заявка на обучение
|
| Проверка выходных данных на соответствие техническому заданию |
| Проведение верификации проекта на соответствие правилам изготовления |
| Конвертация данных в формат используемого лазерного генератора изображений либо в формат установки, используемой сторонним изготовителем фотошаблонов |
| Подготовка комплекта конструкторской документации на проектирование фотошаблонов |
A/07.6 |
6 |
Разработка конструкторской документации на проектирование фотошаблонов с учетом защиты информации
и еще 2 |
Заявка на обучение
|
| Согласование разработанной конструкторской документации |
| Утверждение конструкторской документации на проектирование комплекта фотошаблонов |
| Составление сопроводительной документации на комплект фотошаблонов |
A/08.6 |
6 |
Разработка сопроводительной документации на комплект фотошаблонов
и еще 3 |
Заявка на обучение
|
| Согласование с технологом участка изготовления фотошаблонов сопроводительной документации на комплект фотошаблонов |
| Утверждение сопроводительной документации на комплект фотошаблонов |
| Формирование отчета в журнале о выполнении проекта |
| B |
Разработка маршрута проектирования фотошаблонов в технологии субмикронного и нанометрового диапазонов |
7 |
Ведущий (главный) инженер-проектировщик
|
• Высшее образование - специалитет, магистратура и еще 1• Дополнительные профессиональные программы - программы повышения квалификации, программы профессиональной переподготовки
|
Опыт практической работы более трех лет в области проектирования фотошаблонов
|
Проведение анализа этапов проектирования и разработка требований и спецификаций к ядру системы проектирования фотошаблонов |
B/01.7 |
7 |
Изучение документации и проведение анализа возможностей специализированных программных платформ и спецификации технологического оборудования для проектирования фотошаблонов
и еще 10 |
Заявка на обучение
|
| Проведение анализа базовой информации (техническое задание, спецификации, технические требования по проекту) для проектирования фотошаблонов заданного технологического уровня |
| Формирование перечня компонентов и опций для создания расширяемой структуры системы проектирования (ядра) фотошаблонов, обусловленного технико-экономическими возможностями выбранных программных платформ |
| Определение возможности наличия критических слоев в комплекте фотошаблонов для заданного технологического уровня |
| Формирование специфических требований к литографии для всех критических слоев заданного технологического уровня |
| Разработка детального описания этапов маршрута проектирования для каждого технологического слоя, включая разделение технологических слоев на группы (простая технологическая коррекция, коррекция эффектов оптической близости на основе эмпирических правил и на основе моделей) |
| Формирование служебной технологической информации, состоящей из знаков базирования установки фотолитографии, маркировки фотошаблонов, штрих-кода и других элементов, необходимых для технологического оборудования |
| Разработка требований к рамке виртуального прототипа фотошаблона, содержащей служебную технологическую информацию |
| Разработка рекомендаций по оптимальному размещению топологии кристаллов в заданной области (рамки виртуального прототипа фотошаблона) |
| Определение требований к программно-аппаратному комплексу проектирования фотошаблонов в соответствии с выбранным набором компонентов и опций специализированных программных платформ |
| Составление технико-экономического обоснования выбранных программно-аппаратных средств для реализации системы проектирования фотошаблонов |
| Разработка требований, спецификаций и формирование перечня прикладного программного обеспечения маршрута проектирования фотошаблонов под требуемый уровень технологии |
B/02.7 |
7 |
Анализ документации используемого литографического, электронно-лучевого и контрольно-измерительного оборудования с целью определения технических возможностей проектирования и изготовления фотошаблонов с заданными параметрами
и еще 3 |
Заявка на обучение
|
| Выбор технических средств (или анализ имеющихся параметров) и специального программного обеспечения |
| Анализ методов и способов коррекции оптических искажений при изготовлении фотошаблонов для заданного технологического уровня |
| Разработка маршрутных карт, описывающих последовательность технологических операций проектирования фотошаблонов для заданного технологического уровня |
| Проведение тестирования и верификации разработанного маршрута проектирования фотошаблонов |
B/03.7 |
7 |
Определение совместно с технологами участка изготовления фотошаблонов требований к тестовым топологическим элементам заданного технологического уровня, обусловленных технологическими возможностями используемого литографического оборудования
и еще 9 |
Заявка на обучение
|
| Разработка тестовых топологических элементов к фотошаблонам заданного технологического уровня |
| Формирование наборов тестовых топологических структур для всех критических слоев с целью создания калибровочных моделей |
| Размещение тестовых элементов в рабочем поле фотошаблона (меток и служебной технологической информации) |
| Выполнение процедур передачи управляющей информации на участок изготовления фотошаблонов |
| Проведение верификации и проверки литографических правил |
| Выполнение процедур запроса проведения контрольно-измерительных тестов изготовленного фотошаблона (толщина линий, наличие дефектов, геометрических отклонений) |
| Выполнение процедур запроса статистических данных для анализа корректности тестовых структур фотошаблонов |
| Формирование отчета о тестировании с использованием описания соответствия изготовленного фотошаблона исходным требованиям и рекомендациям по оптимизации размещения элементов топологии, выбору методов коррекции, повышению выхода годных |
| Внесение изменений в маршрутную карту проектирования фотошаблонов, обусловленных технологическими возможностями используемого оборудования и результатами тестирования |
| C |
Выполнение внутрипроизводственных мероприятий по обеспечению информационной безопасности при проектировании фотошаблонов |
7 |
Ведущий (главный) инженер-проектировщик
|
• Высшее образование - специалитет, магистратура и еще 1• Дополнительные профессиональные программы - программы повышения квалификации, программы профессиональной переподготовки
|
Опыт практической работы более трех лет в области проектирования фотошаблонов
|
Проведение анализа новейших исследований в области информационной безопасности и защиты данных при проектировании фотошаблонов |
C/01.7 |
7 |
Проведение анализа угроз информационной безопасности проекта
и еще 2 |
Заявка на обучение
|
| Проведение анализа новейших исследований, публикаций и других источников информации по способам защиты информации и проектных данных при проектировании и изготовлении фотошаблонов |
| Выработка рекомендаций по эффективным методам защиты проектных решений |
| Разработка регламента обеспечения информационной защиты проектных решений при проектировании фотошаблонов |
C/02.7 |
7 |
Анализ технической документации на проектирование фотошаблонов, сопутствующее оборудование и программное обеспечение
и еще 3 |
Заявка на обучение
|
| Оценка существующего регламента обеспечения защиты проектных решений при проектировании фотошаблонов |
| Консультации со специалистами в области информационной безопасности по обеспечению защиты проектных решений при проектировании фотошаблонов |
| Корректировка регламента обеспечения защиты проектных решений при проектировании фотошаблонов |
| Контроль выполнения внутреннего регламента информационной защиты проектных решений |
C/03.7 |
7 |
Проведение инструктажа персонала о профилактике защиты проектных данных техническими и административными методами
и еще 2 |
Заявка на обучение
|
| Проведение периодических проверок систем защиты проектных решений согласно требованиям и регламентам организации |
| Проведение контроля соблюдения административных процедур защиты информации, ведения журнала учета нештатных ситуаций |
